Chemical Solution Deposition

Der englische Begriff chemical solution deposition (CSD, dt. ‚chemische Abscheidung aus der Lösung‘, ‚chemische Lösungsabscheidung‘) bezeichnet eine Gruppe von (chemischen) Beschichtungsverfahren, bei denen ein Substrat zunächst mit einer Lösung benetzt und diese Schicht verfestigt wird. Dies umfasst ein breites Spektrum von Verfahren: * Sol-Gel-Prozess; * (engl.‚ metal-organic decomposition, MOD, auch metal-organic deposition) * Elektroplattieren (engl. electro-chemical deposition, ECD): * (engl. electroless plating) Anders als Verfahren der chemischen oder physikalischen Gasphasenabscheidung benötigen die Verfahren kein Vakuum und sind daher schneller und kostengünstiger.Mit ihnen ist es möglich auch großflächige Substrate mit defektfreien Dünnschichten und guter Stöchiometrie zu beschichten.