Recuit thermique rapide
Sign in to savequickly heats semiconductor wafers to high temperatures
Article · Français
Le procédé de recuit rapide (sigle RTA en anglais) est un procédé de fabrication qui porte le wafer de silicium à haute température (jusqu'à 1 200 °C ou plus) dans un temps très court, quelques secondes.
Abstract from DBpedia / Wikipedia · CC BY-SA