Pulvérisation cathodique
Sign in to savethumb|250px|A commercial AJA Orion sputtering system at Cornell NanoScale Science and Technology Facility thumb|Ion thruster operating on iodine (yellow) using a xenon (blue) hollow cathode. High-energy ions emitted from Spacecraft electric propulsion|plasma thrusters sputter material off the surrounding test chamber, causing problems for ground testing of high-power thrusters. In physics, sputtering is a phenomenon in which microscopic particles of a solid material are ejected from its surface, after the material is itself bombarded by energetic particles of a plasma or gas. It occurs natural
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La pulvérisation cathodique (ou sputtering) est un phénomène dans lequel des particules sont arrachées à une cathode dans une atmosphère raréfiée. Elle est une des causes du vieillissement des anciens tubes électroniques, mais est également mise à profit comme méthode de dépôt de couche mince. Il s'agit dans ce cas d'une technique qui autorise la synthèse de plusieurs matériaux à partir de la condensation d’une vapeur métallique issue d’une source solide (cible) sur un substrat.
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