fotoresist
A photoresist (also known simply as a resist) is a light-sensitive material used in several processes, such as photolithography and photoengraving, to form a patterned coating on a surface. This process is crucial in the electronics industry.
Article · Nederlands
Een fotoresist of fotolak is een materiaal dat onder invloed van UV-licht verandert: * Een negatief resist (NR) wordt hard door licht. De delen die zich achter het belichtingsmasker bevonden worden door de ontwikkelvloeistof weggespoeld. * Een positief resist (PR) wordt juist oplosbaar onder invloed van licht. De afgedekte delen blijven na het spoelen over.
Abstract from DBpedia / Wikipedia · CC BY-SA