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光刻胶（英語：photoresist），亦稱為光阻或光阻劑，是指經過紫外光、深紫外光、电子束、、X射线等光照或辐射後，溶解度发生变化的耐蚀刻薄膜材料，是光刻工艺中的关键材料，主要应用于積體电路和離散元件的细微图形加工。
Abstract from DBpedia / Wikipedia · CC BY-SA
光刻胶（英語：photoresist），亦稱為光阻或光阻劑，是指經過紫外光、深紫外光、电子束、、X射线等光照或辐射後，溶解度发生变化的耐蚀刻薄膜材料，是光刻工艺中的关键材料，主要应用于積體电路和離散元件的细微图形加工。
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Discovered by embedding cosine similarity (sentence-transformers MiniLM, 384-dim).